Purity:>99.995%
產品名稱
中文名稱: 純進口HQ graphene 硫化鉿晶體
英文名稱:HQ graphene HfS2 (Hafnium Disulfide) Crystal
產品概述
HfS2是一種間接帶隙為~ 2ev的半導體。預測單層二硫化鉿的直接帶隙為~1.2 eV。這些層通過范德華相互作用堆疊在一起,可以剝離成薄的二維層。HfS2屬于iv族過渡金屬二硫族化合物(TMDC)。在HQ石墨烯中制備的二硫化鉿晶體橫向尺寸為~0.6-0.8 cm,呈六角形,外觀呈紅色透明。
HfS2 is a semiconductor with an indirect band gap of ~2 eV. Single layer Hafnium Disulfide is predicted to have a direct band gap of ~1.2 eV. The layers are stacked together via van der Waals interactions and can be exfoliated into thin 2D layers. HfS2 belongs to the group-IV transition metal dichalcogenides (TMDC).
The Hafnium Disulfide crystals produced at HQ Graphene have a lateral size of ~0.6-0.8 cm, are hexagonal shaped and have a red transparent appearance.
技術參數
純度: 99.995%
尺寸:6-8mm
產品特點
Electrical properties:Semiconductor
Crystal structure:Hexagonal
Unit cell parameters:a = b = 0.363 nm, c = 0.586 nm, α = β = 90°, γ = 120°
Type:Synthetic
Purity:>99.995%
應用領域
硫化鉿晶體因其特殊的結構和電學性能,成為傳感器領域的有力候選材料。它可以用于制造氣體傳感器、壓力傳感器和濕度傳感器等。這些傳感器利用了二硫化鉿晶體的高靈敏度和快速響應特性,在環境監測和工業自動化中有著重要應用。
在生物醫學領域,二硫化鉿納米片被探索用于治療炎癥性腸病。例如,單寧酸封端的二硫化鉿納米片(HfS2@TA)通過液相剝離法制備,顯示出清除活性氧(ROS)和靶向結腸的能力,這為腫瘤和其他疾病的治療提供了新的思路。
硫化鉿單層是未來納米電子器件中最有前途的二維材料之一。研究人員正在開發基于HfS2的場效應晶體管(FET),這種設備具有超低功耗的特點,并且可以實現多通道架構。這些特性使得HfS2在高性能計算和數據存儲方面具有潛在的應用前景。
由于其直接帶隙半導體性質,單層二硫化鉿晶體在光電和光電子學中也有廣泛應用。例如,它可以用作激光器和光電探測器的核心材料,因其優異的光學特性和儲能性能而受到重視。
硫化鉿晶體還可以作為催化劑使用,特別是在高溫條件下。此外,它在能源存儲和轉換設備中的應用也正在研究之中,如超級電容器和鋰離子電池等。